SEPLITO ®MA920
SEPLITO
® MA920 è una resina anionica di tipo 2 a base forte basata su un polimero macroporoso. È particolarmente adatto per la demineralizzazione di soluzioni offerte grazie all'elevata efficienza di rigenerazione del gruppo attivo di tipo 2.
Per la sua struttura macroporosa è particolarmente resistente nei confronti delle sostanze organiche e può essere utilizzato anche per la loro efficace rimozione.
SEPLITO ® Caratteristiche fisiche e chimiche della resina a base forte MA920:
Caratteristiche fisiche e chimiche | |
Struttura della matrice | DVB in polistirene macroporoso |
Gruppo funzionale | Ammonio quaternario, tipo 2 |
Modulo di spedizione | Forma Cl |
Aspetto fisico | Sfere d'avorio |
Dimensione delle particelle (mm) | 0,315-1,25 |
Contenuto di umidità (%) | 42-52 (forma Cl) |
Capacità totale (eq/L) | «1.2 |
Densità apparente (g/l) | 650-750 |
Densità (g/l) | 1000-1100 |
Conteggio delle perle intere (%) | «95 |
SEPLITO ® MA920 Resina a base forte Caratteristiche principali e vantaggi:
Elevata capacità operativa
Buone prestazioni cinetiche
Lunga durata
SEPLITO ® Precauzioni per la resina a base forte MA920:
Le resine devono essere conservate in contenitori o sacchetti sigillati a temperatura superiore a 0
℃
in condizioni asciutte senza esposizione alla luce solare diretta.
Non mescolare la resina a scambio ionico con forti agenti ossidanti; altrimenti provocherà reazioni violente.
In caso di contatto degli occhi con le resine, sciacquare immediatamente e abbondantemente con acqua e consultare uno specialista.
Il materiale e i campioni devono essere smaltiti secondo le normative locali.
I polimeri secchi si espandono quando vengono bagnati e possono causare una reazione esotermica.
I materiali versati potrebbero essere scivolosi.
SEPLITO ® e Monogetto ℃ sono marchi registrati di Sunresin New Materials Co. Ltd., Xi`an
Queste informazioni sono informazioni generali e potrebbero differire da quelle in base alle condizioni reali. Per ulteriori informazioni su SEPLITE ® resine, contattare SUNRESIN ® direttamente.